光电薄膜先进制造

　　研究目标：不断提升光学薄膜与功能薄膜理论水平，完善薄膜制备工艺，开创新型测试方法。在国内实现引领学科发展，满足国家战略需求的目的。

　　主要研究方向如下：

　　l 薄膜光学理论及成膜技术研究

　　以电磁场理论为基础，借鉴光子晶体理论和亚波长理论的相关知识，发展并完善薄膜光学理论;利用PVD和CVD手段进行薄膜沉积技术研究，在微尺度上研究不同工艺的成膜物理过程，结合各种检测等对薄膜的特性进行准确表征和深入研究，实现成膜机理认识的突破。

　　2 超大尺寸反射镜镀膜设备及工艺

　　针对超大尺寸反射镜的特点，探索新的镀膜方法，解决SiC反射镜表面改性和高反射膜镀制的难题，引领国内超大型真空镀膜设备制造的发展，研发配套工艺，为我国地基和天基应用的超大尺寸反射镜镀膜提供坚实的技术支持。

　　3 新型硅基近红外探测器光电材料研究

　　通过对黑硅材料制备工艺、掺杂浓度、掺杂粒子种类、表面金属纳米颗粒沉积等方面的研究，深入探索黑硅材料的结构与特性，突破其在光电探测器件中应用的关键技术问题。

　　4 雷达与红外隐身功能材料设计与制备工艺技术研究

　　通过开展雷达隐身超材料的宏观本构参数设计与反演技术、集总型有源可调控隐身材料与馈电网络一体化设计技术、曲面激光刻蚀准确定位与材料精确去除技术、多维复合红外隐身材料的分析设计与工艺制备技术的研究，突破传统雷达隐身材料性能局限和制造瓶颈，发展频率可调控的有源隐身材料技术，建立起完备的设计、制造和测试条件保障，形成多功能雷达隐身材料的研制能力，实现多种型号应用，满足国家重大战略需求;以红外隐身技术为切入点，探索红外隐身材料新机理、新方法，创新红外隐身材料制备工艺，为武器装备的红外隐身技术提供新思路、新技术。在此基础上，进一步将研究工作拓宽到可见光隐身技术领域，为我所在先进光学技术领域开辟新方向。